外延碲化铋拓扑绝缘体薄膜中多重X射线散射的混合反射
材料科学
2020-07-31 v1
摘要
外延碲化铋拓扑绝缘体薄膜因在自旋电子学和量子计算中的潜在应用而受到越来越多的关注。外延薄膜最重要的性质之一是由于横向晶格失配导致的界面缺陷的存在，因为电活性缺陷会极大地损害器件性能。通过描述立方衬底上六方碲化铋薄膜中的混合反射，面内晶格失配的表征精度比其他X射线衍射方法至少高20倍，提供了0.007%横向晶格失配的明确证据，与薄膜结构中范德瓦耳斯间隙相关的应力弛豫一致。
引用
@article{arxiv.2007.15042,
title = {Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films},
author = {Sergio L. Morelhao and Stefan Kycia and Samuel Netzke and Celso I. Fornari and Paulo H. O. Rappl and Eduardo Abramof},
journal= {arXiv preprint arXiv:2007.15042},
year = {2020}
}
备注
9 pages, 6 figures, including supplementary material