Mn$_x$Bi$_2$Te$_{3+x}$外延薄膜中X射线衍射的模拟
材料科学
2021-09-07 v1
摘要
无序异质结构是同系化合物（如铋硫族化物）的通用描述。在器件工程中，这些化合物的范德瓦耳斯外延在自旋电子学和量子计算应用中极具前景。结构分析方法对于以薄膜形式控制和改进其合成至关重要。最近，已有研究提出利用X射线工具对无序异质结构进行结构建模[arXiv:2107.12280]。在此，我们进一步评估这些工具在反射率曲线的掠入射区域研究化合物MnBiTe的用途，以及厚度涨落在广角区域中的影响。
引用
@article{arxiv.2109.01914,
title = {Simulation of X-ray diffraction in Mn$_x$Bi$_2$Te$_{3+x}$ epitaxic films},
author = {Rafaela F. S. Penacchio and Celso I. Fornari and Yori G. Camillo and Philipp Kagerer and Sebastian Buchberger and Martin Kamp and Hendrik Bentmann and Friedrich Reinert and Sergio L. Morelhao},
journal= {arXiv preprint arXiv:2109.01914},
year = {2021}
}
备注
10 pages, 3 figures, and 1 table