中文

GeP3:一种具有小间接带隙、高载流子迁移率和强层间量子限域的二维晶体

材料科学 2017-02-02 v2

摘要

我们提出了一种二维晶体 GeP3,它具有 0.55 eV(单层)和 0.43 eV(双层)的低间接带隙,以及与黑磷相似的高载流子迁移率。GeP3 具有稳定的三维层状体块对应物,该体块具有金属性,且自 1970 年起便为实验所知。其解理能很小,这表明剥离体块材料是制备单层和少层材料的可行手段。该材料表现出强烈的层间量子限域效应,导致带隙从单层到双层减小,随后在双层和三层之间发生半导体-金属转变。在双轴应变下,间接带隙可以转变为直接带隙。预测单层和双层在约 600 至 1400 nm 的光谱范围内具有显著的光吸收,这为其在光伏领域的应用提供了前景。

关键词

引用

@article{arxiv.1612.04081,
  title  = {GeP3: A small indirect band gap 2D crystal with high carrier mobility and strong interlayer quantum confinement},
  author = {Yu Jing and Yandong Ma and Yafei Li and Thomas Heine},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1612.04081},
  year   = {2017}
}

备注

14 pages, 5 figures, submitted