沉积于不同基底上的 BaF2 薄膜的分形分析
材料科学
2017-05-22 v1
摘要
采用电子束蒸发技术在室温下于玻璃、硅和铝基底上制备了厚度均为 20 nm 的氟化钡（BaF2）薄膜。分别利用掠入射 X 射线衍射（GAXRD）和原子力显微镜（AFM）研究了其结构特性和表面形貌。研究发现，晶粒尺寸、平均表面粗糙度和界面宽度随基底的不同而发生变化。将 Higuchi 算法应用于 AFM 图像以进行分形测度。观察到分形维数随基底的不同而有所变化。
引用
@article{arxiv.1705.06889,
title = {Fractal analysis of BaF2 thin films deposited on different substrates},
author = {Kavyashree and R. K. Pandey and R. P. Yadav and Manvendra Kumar and A. K. Mittal and A. C. Pandey and S. N. Pandey},
journal= {arXiv preprint arXiv:1705.06889},
year = {2017}
}