氟化石墨烯基材料的柔韧性
材料科学
2022-04-28 v1 介观与纳米尺度物理
软凝聚态物质
摘要
研究了含有氟化石墨烯(FG)薄片和不同氟化程度的化学气相沉积(CVD)生长石墨烯的不同薄膜及结构在弯曲变形引起的拉伸和压缩应变下的电阻率。通过CVD法生长的石墨烯和多层石墨烯薄膜通过层压转移到柔性基底上并进行氟化处理。它们表现出较低的氟化程度(F/C低于20%)。压缩应变导致两种情况下电阻率大幅(一到两个数量级)下降,这很可能与通过氟化石墨烯形成额外的导电路径有关。由两种CVD生长的FG弯曲引起的最高3%的拉伸应变,导致电阻率保持恒定或在重复应变循环下发生不可逆的增加。对于在聚乙烯醇上印刷的FG薄膜结构,在最高6.5%的拉伸应变(弯曲半径为2 mm)下观察到稳定的双极电阻开关现象。交叉开关忆阻器结构在拉伸应变下的优异性能表明,由悬浮液制备的FG薄膜和结构在柔性电子领域尤其具有前景。
引用
@article{arxiv.2204.12596,
title = {Flexibility of Fluorinated Graphene-Based Materials},
author = {I. V. Antonova and N. A. Nebogatikova and N. Zerrouki and I. I. Kurkina and A. I. Ivanov},
journal= {arXiv preprint arXiv:2204.12596},
year = {2022}
}
备注
14 pages, 8 figures