通过自卷曲膜平台在石墨烯中实现大于5%的压缩应变
介观与纳米尺度物理
2022-06-06 v1
摘要
石墨烯是一种原子级薄的金属性膜，能够承受可逆应变，并为通过应变调控其光电特性提供了诱人前景。石墨烯卓越的机械柔韧性和抗拉强度为应变工程留下了很大空间。在此，我们利用自卷曲膜平台进行应变工程，并将石墨烯与具有应力的介电薄膜集成。石墨烯在从基底释放时与应力薄膜一起向上或向下卷曲，卷曲膜堆的曲率实现了石墨烯单层的应变调控。拉曼光谱用于通过量化双重简并E2g光学模式中G峰的红移和分裂来表征卷曲石墨烯中的单轴应变。使用直径约为2微米的SRuM实现了约5%的压缩应变。通过减小SRuM结构的直径，可达到更高的应变水平。SRuM方法也可容易地应用于在其他材料中诱导应变，且超出传统方法所能达到的水平。
引用
@article{arxiv.2206.01650,
title = {Greater than 5 Percent Compressive Strain in Graphene via the Self Rolled up Membrane Platform},
author = {Paul Froeter and Parsian Moseni and Apratim Khandelwal and Xiuling Li},
journal= {arXiv preprint arXiv:2206.01650},
year = {2022}
}