通过退火调节石墨烯中的应力并控制厚度修饰

石墨烯拥有许多独特的性质，使其成为基础研究和潜在应用的诱人材料。在本文中，我们报告了利用拉曼光谱和成像技术对石墨烯中工艺诱导缺陷和应力的首次实验研究。缺陷导致观察到与缺陷相关的拉曼谱带，而应力则引起声子频率的偏移。通过沉积 5 nm SiO2 随后进行退火，在石墨烯中诱导了高达 2.1 GPa 的压应力；而通过沉积薄硅覆盖层，获得了约 0.7 GPa 的张应力。在前一种情况下，压应力的大小和石墨烯层数均可通过退火温度进行控制或修饰。由于应力和厚度均影响石墨烯的物理性质，本研究可能开启利用厚度和应力工程来提升石墨烯基器件性能的可能性。局部加热技术可用于选择性地诱导应力或减小厚度。