平面缺陷临界现象的超常对数普适性

近年来超常对数（E-Log）临界性的发现是现代临界理论的一项瞩目成就，并呼唤进一步的推广。利用大规模蒙特卡洛模拟，我们研究了三维和四维 O($n$) 临界系统中平面缺陷的临界现象。在三维中，我们提供了平面缺陷 E-Log 临界性的首个数值证明。特别地，对于 $n=2$，两点关联临界指数 $\hat{q}$ 与螺旋度模量的重整化群参数 $\alpha$ 符合标度关系 $\hat{q}=(n-1)/(2 \pi \alpha)$，而 $n \geq 3$ 的结果则违背该标度关系。在四维中，惊人地发现 E-Log 临界性也在平面缺陷中出现。这些发现具有众多潜在实现途径，并将推动共形场论正在进行的进展。