Cu插层于石墨烯与Ru(0001)表面间的受限台阶流生长
材料科学
2019-03-21 v1
摘要
通过比较Cu薄膜在裸露和石墨烯覆盖的Ru(0001)表面上的生长，我们展示了石墨烯作为表面活性剂促成平坦Cu膜形成的作用。低能电子显微镜、X射线光电子发射电子显微镜和X射线吸收光谱揭示，在580 K沉积Cu导致两类表面上的不同行为。在裸露Ru上，观察到Stranski-Krastanov生长：先形成原子级平坦且单原子层厚的润湿层，随后三维岛核化。截然相反，在相同条件下将Cu沉积于石墨烯覆盖的Ru表面时，Cu插层到石墨烯下方并以台阶流方式生长：插层Cu的原子级高度生长前沿形成于石墨烯边缘，并向薄片中心延伸。我们的发现为金属异质外延中薄膜形貌的控制提供了潜在途径。
引用
@article{arxiv.1903.08397,
title = {Confined step-flow growth of Cu intercalated between graphene and a Ru(0001) surface},
author = {Nicolas Rougemaille and Sergio Vlaic and Lucia Aballe and Michael Foerster and Johann Coraux},
journal= {arXiv preprint arXiv:1903.08397},
year = {2019}
}
备注
9 pages, 4 figures