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二维金属-绝缘体转变附近的电导涨落

强关联电子 2009-10-30 v1

摘要

对短而宽的高迁移率Si-MOSFET的电导 GG 的测量揭示了在中等温度(1 < T<<~ T < 4~K)下的二维金属-绝缘体转变(MIT)以及在低温(T <T~ < 1~K)下的介观电导涨落。两者都作为化学势(载流子浓度 nsn_s)的函数进行研究,化学势由栅极电压(VgV_g)和MIT附近的磁场 BB 控制。对低温涨落的傅里叶分析揭示了 VgV_g 中的几个涨落尺度,这些尺度在MIT附近非单调变化。在较高温度下,G(Vg,B)G(V_g,B) 与大尺寸场效应晶体管相似,并表现出MIT。所有观察结果都支持MIT由载流子之间的库仑相互作用驱动的观点。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/9708168,
  title  = {Conductance Fluctuations Near the Two-Dimensional Metal-Insulator Transition},
  author = {K. P. Li and Dragana Popovic and S. Washburn},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9708168},
  year   = {2009}
}

备注

4 pages, LaTeX, physica.sty (slightly modified prabib.sty), Submitted to the 1997 Conference on Electronic Properties of Two-Dimensional Systems