图案化石墨烯异质结构中平庸相与拓扑相的竞争
介观与纳米尺度物理
2020-06-24 v3 强关联电子
摘要
我们探究机械应变对图案化石墨烯异质结构电子能谱的影响。我们聚焦于有利于平庸相的Kekulé-O型畸变与产生拓扑相的 commensurate Kane-Mele型自旋轨道耦合之间的竞争。我们推导了一个包含两种隙促成机制并纳入单轴应变对应项的简单低能Dirac哈密顿量。所导出的有效模型通过简单的物理图像解释了此前的第一性原理结果。我们表明，尽管平庸能隙对机械畸变敏感，拓扑能隙却保持稳健。
引用
@article{arxiv.1912.05981,
title = {Competition of trivial and topological phases in patterned graphene based heterostructures},
author = {Zoltán Tajkov and János Koltai and József Cserti and László Oroszlány},
journal= {arXiv preprint arXiv:1912.05981},
year = {2020}
}
备注
9 pages, 6 figures. Comments are welcomed