电沉积纳米晶 Ni 膜缺陷结构的表征
材料科学
2017-03-16 v1
摘要
通过 X 射线衍射 (XRD) 线形分析和截面透射电子显微镜 (TEM)，研究了在无有机添加剂和有有机添加剂（糖精和甲酸）条件下制备的电沉积 Ni 膜的微观结构。虽然这些添加剂对微观结构的一般影响（消除柱状生长以及晶粒细化）得到了复现，但本研究的一个显著意图是在相同的电沉积试样上比较各种很少使用的高性能结构表征方法的结果，以揭示该领域不常见的结构变化的精细细节。在无添加剂沉积的薄膜中，观察到类似于结构区域模型 T 区的柱状结构。甲酸和糖精添加剂均导致纳米晶薄膜中尺寸减小的等轴晶粒，以及位错和孪晶层错密度的增加。此外，由于添加剂的作用，结构在整个膜厚范围内变得均匀且无织构。糖精比甲酸产生更小的晶粒尺寸和更大的缺陷密度。通过 TEM 和 XRD 的互补应用，仔细区分 TEM 和 XRD 晶粒尺寸，对晶粒尺寸和孪晶界间距分布进行了详细分析。
引用
@article{arxiv.1703.05191,
title = {Characterization of Defect Structure in Electrodeposited Nanocrystalline Ni Films},
author = {Tamás Kolonits and Péter Jenei and Bence G. Tóth and Zsolt Czigány and Jenő Gubicza and László Péter and Imre Bakonyi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1703.05191},
year = {2017}
}
备注
26 pages, 11 figures