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基于HgTe的三维拓扑绝缘体的能带结构

介观与纳米尺度物理 2020-10-20 v1 材料科学

摘要

通过回旋共振分析,我们实验获得了基于HgTe薄膜的三维拓扑绝缘体的能带结构。采用顶栅调控以移动薄膜中的费米能级,使我们能够探测到对应于两个相对薄膜界面的表面态、体导带和价带的独立共振模式。实验能带结构与kp\mathbf{k\cdot p}模型的预言相当吻合。由于表面带与体带强杂化,在较宽电子能量范围内表面态的色散接近于抛物线形。

关键词

引用

@article{arxiv.2010.09532,
  title  = {Band structure of a HgTe-based three-dimensional topological insulator},
  author = {J. Gospodaric and V. Dziom and A. Shuvaev and A. A. Dobretsova and N. N. Mikhailov and Z. D. Kvon and E. G. Novik and A. Pimenov},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2010.09532},
  year   = {2020}
}