利用二维光学掩模的原子光刻技术

利用二维（2D）光学掩模，在采用亚稳态氦原子的原子光刻工艺中首次制备出纳米级图案。利用原子的内能对疏水性抗蚀层进行局部损伤，该抗蚀层随后在湿法刻蚀工艺中被去除。实验采用了多种偏振态的光学掩模，产生了不同的强度图案以及相应的纳米级结构。线偏振光场的结果显示出一系列直径为260 nm的孔洞，与计算图案相符。而圆偏振光场则观测到间距为766 nm的线状图案。考虑了许多可能的实验缺陷的模拟无法解释这一图案。