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量子干涉光学光刻：迈向任意二维图样

量子物理 2009-11-06 v2

作者: Pieter Kok , Agedi N. Boto , Daniel S. Abrams , Colin P. Williams , Samuel L. Braunstein , Jonathan P. Dowling

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摘要

如 Boto 等人 [Phys. Rev. Lett. 85, 2733 (2000)] 所演示，量子光刻提供了低于衍射极限的分辨率提升。在此，我们推广该程序以在一维和二维中创建图样。这使得量子光刻成为纳米技术中一种潜在有用的工具。

关键词

量子光刻光学干涉衍射极限纳米技术二维图样

引用

@article{arxiv.quant-ph/0011088,
  title  = {Quantum interferometric optical lithography:towards arbitrary two-dimensional patterns},
  author = {Pieter Kok and Agedi N. Boto and Daniel S. Abrams and Colin P. Williams and Samuel L. Braunstein and Jonathan P. Dowling},
  journal= {arXiv preprint arXiv:quant-ph/0011088},
  year   = {2009}
}

备注

9 pages, 5 figures Revtex