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双光子衍射与量子光刻

量子物理 2009-11-07 v1

摘要

我们报告了量子光刻的原理验证实验演示。利用双光子态的纠缠特性,实验结果将经典衍射极限提高了两倍。这是一种量子力学双光子现象,但并不违反不确定性原理。

关键词

引用

@article{arxiv.quant-ph/0103035,
  title  = {Two-photon diffraction and quantum lithography},
  author = {Milena D'Angelo and Maria V. Chekhova and Yanhua H. Shih},
  journal= {arXiv preprint arXiv:quant-ph/0103035},
  year   = {2009}
}

备注

5 pages, 5 figures Submitted to Physical Review Letters