量子干涉光学光刻：利用纠缠突破衍射极限
量子物理
2010-04-09 v2
摘要
经典的干涉光学光刻受衍射限制，只能写出尺寸为 lambda/2 或更大的特征，其中 lambda 为光波长。利用非经典光子数态，每次 N 个纠缠，我们表明可在 N 光子吸收衬底上写出最小尺寸为 lambda/(2N) 的特征。该结果以因子 N 超越了通常的经典衍射极限。由于在二维表面上可刻蚀的特征数反比于特征尺寸的平方，这使得可在半导体芯片上多写出因子 N^2 的元件。因子 N = 2 可容易地由光学参量下转换产生的纠缠光子对实现。文中展示了如何用此方法写出任意二维图案。
引用
@article{arxiv.quant-ph/9912052,
title = {Quantum Interferometric Optical Lithography: Exploiting Entanglement to Beat The Diffraction Limit},
author = {Agedi N. Boto and Pieter Kok and Daniel S. Abrams and Samuel L. Braunstein and Colin P. Williams and Jonathan P. Dowling},
journal= {arXiv preprint arXiv:quant-ph/9912052},
year = {2010}
}
备注
9 pages, 2 figures