对“量子干涉光学光刻:利用纠缠突破衍射极限”的评论

Ole Steuernagel

对“量子干涉光学光刻:利用纠缠突破衍射极限”的评论

量子物理 2007-05-23 v1

作者: Ole Steuernagel

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摘要

对“量子干涉光学光刻:利用纠缠突破衍射极限”的评论:量子光刻中的有效吸收率非常低。

关键词

量子光刻光学光刻纠缠衍射极限评论

引用

@article{arxiv.quant-ph/0305042,
  title  = {Comment on "Quantum Interferometric Optical Lithography: Exploiting Entanglement to Beat the Diffraction Limit"},
  author = {Ole Steuernagel},
  journal= {arXiv preprint arXiv:quant-ph/0305042},
  year   = {2007}
}