利用原子干涉术的二维纳米光刻
量子物理
2007-05-23 v1
摘要
我们提出一种通过物质波干涉实现任意二维纳米结构光刻的新方案。所需的量子控制由带集成原子透镜系统的 pi/2-pi-pi/2 原子干涉仪提供。该透镜系统经发展可同时控制原子波包空间范围、轨迹与相位特征。我们通过对实际参数空间中该方案的数值模拟，用二维 87Rb 波包展示了任意图形形成。还讨论了该光刻方案实验实现的前景。
引用
@article{arxiv.quant-ph/0404158,
title = {Two-dimensional Nanolithography Using Atom Interferometry},
author = {A. Gangat and P. Pradhan and G. Pati and M. S. Shahriar},
journal= {arXiv preprint arXiv:quant-ph/0404158},
year = {2007}
}
备注
36 pages, 4 figures