基于实时电气控制压痕的纳米 lithography 用于纳米接触制造
介观与纳米尺度物理
2015-06-24 v1
摘要
我们报道了利用在绝缘光阻薄层上进行压痕来制造纳米接触的技术，薄层覆盖于各种导电结构上。使用设计用于局部电阻测量的改进型原子力显微镜（AFM）作为纳米压痕器。在测量AFM导电针与导电层之间电阻的同时进行纳米压痕。该电阻用于作为停止压痕的触发参数，从而实现对压痕过程的极高精度控制。随后，用金属填充所制作的洞口，在底层上创建接触。我们表明，可通过此技术制造1至10 nm²范围内的纳米接触。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0306068,
title = {Nanolithography based on real-time electrically-controlled indentation with an atomic force microscope for nanocontacts elaboration},
author = {K. Bouzehouane and S. Fusil and M. Bibes and J. Carrey and T. Blon and P. Seneor and V. Cros and L. Vila},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0306068},
year = {2015}
}