高功率驻波光场中亚稳态氦原子的纳米光刻

我们使用亚稳态三重态氦原子通过光刻工艺在金基底上创建了周期性纳米结构，这些原子会损坏基底上的疏水性抗蚀层。一束亚稳态氦原子被横向冷却并引导通过强驻波光场。与常用的低功率光学掩模相比，高功率光场（饱和参数为10^7）显著增加了原子在驻波中的约束，并使实验装置的对准不那么关键。由于亚稳态氦原子的高内能（20 eV），每个抗蚀剂分子仅需一个原子的剂量。仅需八分钟的曝光时间，就创建了间距为542 nm、宽度为100 nm（用于光学掩模的波长的1/11）的平行线。