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外延应变薄膜 Young-Dupré 定律的解析验证

偏微分方程分析 2018-09-27 v1

摘要

我们在此给出对伴随论文 [Davoli E., Piovano P., Derivation of a heteroepitaxial thin-film model. Submitted 2018] 中作者所确立的外延应变薄膜变分模型极小元正则性的分析。薄膜能量最优剖面的正则性通过推广先前的方法并基于传输问题发展新的思想加以研究。所获得的正则性结果关联于 Stranski-Krastanow 与 Volmer-Weber 两种模式、薄膜与衬底间可能不同的弹性性质,以及所涉及的三个界面(膜/气、衬底/气、膜/衬底)表面张力的存在。最后,给出了最优润湿角(即薄膜与衬底接触点处形成的角)的几何条件。特别地,证明了 Young-Dupré 定律成立,这似乎是连续力学背景下针对薄膜模型的该定律首个解析验证。

关键词

引用

@article{arxiv.1809.09991,
  title  = {Analytical validation of the Yound-Dupr\'e law for epitaxially-strained thin films},
  author = {Elisa Davoli and Paolo Piovano},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1809.09991},
  year   = {2018}
}

备注

10 figures