拓扑绝缘体 Bi$_{1-x}$Sb$_x$ 的表面态
介观与纳米尺度物理
2009-11-13 v1
摘要
我们研究了半导体合金 BiSb 的电子表面态。利用现象学紧束缚模型,我们表明 111 表面态的费米面在表面布里渊区中包围了奇数个时间反演不变动量 (TRIM),证实了该合金是一种强拓扑绝缘体。接着,我们提出了一般性论证,表明空间对称性会导致额外的拓扑结构,并进一步约束表面能带结构。具有反演对称性的晶体拥有 8 个 “宇称不变量”,其中包括由时间反演导致的 4 个 不变量。额外的不变量决定了“表面费米子宇称”,它指定了哪些表面 TRIM 被奇数个电子或空穴袋所包围。我们提供了这一结果的简单证明,建立了表面态与体态宇称本征值之间的直接联系。随后,我们对 BiSb 的几个晶面的表面态结构做出了具体预测。接下来,我们表明镜像不变能带结构的特征在于一个整数“镜像陈数”。在 BiSb 的拓扑绝缘体相中, 的符号与纯 Bi 的 L 点 理论中一个此前未被探索的 参数相关,我们将其称为“镜像手性”。紧束缚模型预测的 Bi 的 值与更基本的赝势计算预测的值不一致。这解释了我们的紧束缚表面态计算与先前关于 Bi 的第一性原理计算之间微妙的分歧。这表明需要重新审视 Liu-Allen Bi 模型中的紧束缚参数。我们将讨论其对现有及未来的角分辨光电子能谱 (ARPES) 实验和自旋极化 ARPES 实验的影响。
引用
@article{arxiv.0804.2664,
title = {Surface States of the Topological Insulator Bi_{1-x}Sb_x},
author = {Jeffrey C. Y. Teo and Liang Fu and C. L. Kane},
journal= {arXiv preprint arXiv:0804.2664},
year = {2009}
}
备注
15 pages, 7 figures