共溅射 Cu-Nb 和 Cu-Pd 织构薄膜的结构分析
材料科学
2025-09-10 v1
摘要
对纳米级双金属相体系进行结构表征极具挑战性，这类体系在共溅射少量次要元素时会表现出部分混合、完全混合或不混合。在室温下共溅射两种金属会导致沉积薄膜内存在冻结的无序状态。通过衍射分析来区分每种金属相的贡献、确定第二组分元素在晶格内的分布与自组织、准确定量额外元素的含量以及评估内部无序，这些都非常复杂，需要开发一个合适的模型来拟合来自不同几何构型的衍射图谱。在此，我们提出了一个模型来描述磁控溅射 Cu 薄膜中合金元素的结构分布，并探索了两种截然不同的情况：1) 与互不混溶的 Nb 共溅射；2) 与 Pd 共溅射，Pd 与 Cu 具有负的混合热，能形成稳定合金。本文还讨论了 X 射线衍射数据与能量色散 X 射线光谱所得元素分布之间的比较。
引用
@article{arxiv.2509.07658,
title = {Structural analysis of co-sputtered Cu-Nb and Cu-Pd textured thin films},
author = {Claudia Cancellieri and Giacomo Lorenzin and Yeliz Unutulmazsoy and Andriy Lotnyk and Daniel Ariosa},
journal= {arXiv preprint arXiv:2509.07658},
year = {2025}
}