商用大尺寸 GEM 箔片的研发
仪器与探测器
2014-11-27 v1
摘要
RHIC 上 STAR 实验最近完成的前向 GEM 追踪器 (FGT) 利用了基于双掩模化学蚀刻技术商业生产的 GEM 箔片。随着未来实验提议使用超大面积 GEM 箔片的探测器，市场对商用 GEM 箔片产生了需求。双掩模蚀刻技术在最大尺寸方面存在明显限制。相比之下，CERN 开发的单掩模技术能够克服这些限制。我们报告了使用美国马萨诸塞州普利茅斯 Tech-Etch Inc. 公司采用单掩模技术生产的 10 10 cm 和 4040 cm GEM 箔片所获得的结果，这标志着大尺寸 GEM 箔片商业化生产的开端。通过漏电流测量和自动化高分辨率 CCD 扫描仪进行的电气与光学分析，建立了一套质量保证程序。Tech-Etch 箔片表现出优异的电气性能，测得的漏电流通常低于 1 nA。Tech-Etch 单掩模箔片的几何特性彼此一致，并与之前测量的双掩模箔片的几何规格相符。单掩模箔片在整个有效区域内显示出良好的内孔和外孔直径均匀性。
引用
@article{arxiv.1411.7243,
title = {Research and Development of Commercially Manufactured Large GEM Foils},
author = {M. Posik and B. Surrow},
journal= {arXiv preprint arXiv:1411.7243},
year = {2014}
}
备注
Presented at the 2014 IEEE conference in Seattle, WA