利用商用大尺寸GEM箔构建三重GEM探测器

许多实验目前正在使用或提议在其探测器中使用大面积GEM箔，这产生了对市售GEM箔的需求。目前CERN是大型GEM箔的唯一主要分销商，然而随着对GEM技术兴趣的增长，满足日益增长的GEM需求将很困难。因此，美国马萨诸塞州普利茅斯的Tech-Etch公司利用单掩模技术实现了最大50 $\times$ 50 cm$^2$ 的GEM商业化。已发现单掩模GEM箔的电学性能和光学质量与CERN生产的相当。验证Tech-Etch单掩模GEM箔的下一个关键步骤是在物理条件下测试其性能。这些测量将使我们能够量化探测器增益和效率，并与其他三重GEM探测器进行比较。这将通过构建几个使用Tech-Etch制造的箔、遵循STAR前向GEM跟踪器(FGT)所用设计的单掩模三重GEM探测器来完成。这些探测器将研究进一步减少材料预算和提高探测器效率的方法，采用穿孔Kapton间隔环而非G10间隔栅格以减少探测器的死区。组装三重GEM探测器所需的材料和工具已获取。GEM箔已进行电学测试，少数已进行光学扫描。我们发现这些结果与CERN生产的GEM箔一致。随着这些初始测试的成功，三重GEM探测器的构建正在进行中。