商用大型 GEM 箔的研发
仪器与探测器
2016-01-15 v2 核实验
摘要
随着未来实验提出使用非常大面积 GEM 箔的探测器，对市售 GEM 箔产生了需求。双掩模蚀刻技术在 GEM 箔的最大尺寸上构成了明显限制。相比之下，CERN 开发的单掩模技术可克服这些限制。然而，随着对 GEM 箔兴趣的增加且 CERN 是唯一主要供应商，满足 GEM 箔的需求将很困难。因此，美国马萨诸塞州普利茅斯的 Tech-Etch 公司利用单掩模技术实现了 GEM 的商业化。我们报告了 10 10 cm 和 4040 cm GEM 箔的电学性质、几何性质以及内外孔径尺寸均匀性。发现 Tech-Etch 箔具有优异的电学性质。测得的平均光学性质符合预期参数，且与双掩模 GEM 箔中的测量结果一致，并显示出活性区域内良好的孔径均匀性。这些箔非常适合于需要跟踪装置的核与粒子物理中的未来应用。
引用
@article{arxiv.1506.03652,
title = {Research and Development of Commercially Manufactured Large GEM Foils},
author = {M. Posik and B. Surrow},
journal= {arXiv preprint arXiv:1506.03652},
year = {2016}
}
备注
Submitted to NIM A