面向高数值孔径极紫外光刻的平行平面谐振腔构型提案

提出一种用于高NA EUV光刻的平行平面谐振腔构型，其中光刻掩模与晶圆通过两面聚焦镜平行布置。EUV光通过位于后焦平面的离轴旋转镜注入，并向掩模提供离轴照明（进动光束），在掩模和晶圆处各反射一次，最终通过旋转镜离开谐振腔。这是一个单程腔体，无谐振效应。旋转镜的轨道误差或振动不影响成像质量。离轴照明对高NA光学至关重要，其恢复了高空间频率并提高了边缘对比度。匹配的环形孔径位于投影镜的后焦平面，充当傅里叶滤波器，仅通过由密度调制F(kx,ky,0)（掩模的0阶z向傅里叶分量）反射的水平散射波。在光束单次进动期间，该系统将掩模图案的法向投影密度图二维成像于晶圆上，纵向变化（3D效应）消失，从而缓解了掩模阴影问题。焦深（DOF）长，且图像对比度非常高。作为物镜，Schwarzschild物镜或Wolter望远镜将是合适的候选。Wolter望远镜轴对称且比传统实心凹面镜更轻，因此可在高进动下制造更大口径。通过优化Wolter望远镜，有可能覆盖单次图形化的26 mm x 33 mm晶圆视场尺寸。进行了示例参数设计，看似技术上可行。