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Sb2S3中压力诱导的电子拓扑转变

材料科学 2016-01-20 v1

摘要

利用拉曼光谱、电阻率以及可用的X射线衍射研究文献,研究了宽禁带半导体Sb2S3 (Eg = 1.7-1.8 eV)中压力诱导的电子拓扑转变,其晶体对称性(SG: Pnma)与其著名类似物Sb2Se3相似。在本报告中,分别研究了Sb2S3的振动和输运性质直至22 GPa和11 GPa。我们观察到声子模Ag(2)、Ag(3)和B2g的软化以及它们在4 GPa处线宽的尖锐反常。电阻率研究也显示在此压力附近存在反常。电阻率和拉曼线宽的变化可归因于费米面拓扑的改变,后者诱导了电子-声子和强声子-声子耦合,表明Sb2S3中电子拓扑转变(ETT)的明确证据。从文献获得的a/c比图的压力依赖性在~5 GPa处显示极小值,这与我们的高压拉曼和电阻率结果一致。最后,我们给出了高压下Sb2S3中不存在非平庸拓扑态的合理原因。

关键词

引用

@article{arxiv.1508.02516,
  title  = {Pressure induced electronic topological transition in Sb2S3},
  author = {Y. A. Sorb and V. Rajaji and P. S. Malavi and U. Subbarao and P. Hadappa and S. Karmakar and Sebastian C. Peter and C. Narayana},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1508.02516},
  year   = {2016}
}

备注

24 pages, 6 Figures, 2 tables submitted for publication