高纵横比微机械 cantilever 的铂黑色用于散光抑制

微型化学装置在精密实验物理的前沿领域广泛应用。此类装置往往需要具备高电导性但在光学波长下具有低反射率，这两项要求对许多常用涂层来说是相互竞争的。本文提出了一种将具有高度卷曲表面的铂电镀技术，用于 $475\,\mathrm{\mu m } \, \times 500\,\mathrm{\mu m } \, \times 10\,\mathrm{\mu m }$ 硅/金 cantilever，保持其电导性，同时将其在 $0.3 - 1\,\mathrm{\mu m}$ 波段的反射率降低 $100$ 倍或更多。该制造技术可以在不损坏精细结构的前提下在制造后进行，这一技术对潜在的广泛实验应用具有重要意义。