镀金表面光电发射阈值的有效降低
仪器与探测器
2019-07-08 v3
摘要
许多应用需要对孤立被测体进行电荷中和,这已通过利用电学上良性(金)或超导(铌)表面的光电发射成功实现。金表面名义上具有高功函数(\,eV),理应需要深紫外光子才能产生光电子发射。实际上发现,使用能量稍低、指示功函数为(\,eV)的光子即可实现。目前缺乏对该过程的详细机理认识,本工作报道了对 4.6x4.6 cm^2 镀金表面的光电发射特性研究,该表面代表典型卫星应用中所用者,膜厚 800 nm,测得表面粗糙度介于 7 至 340 nm。多种紫外源的光子能量为 4.8 至 6.2 eV、输出功率为 1 nW 至 1000 nW,以 0 至 60 度入射角照射中心表面区域约 0.3 cm^2。在约 3 年期间的 8 次实验中,可靠获得了 10 ppm 至 44 ppm 的最终外量子产额,但存在持续数周的中间长期变化,某些情况下还进行了高达 200 C 的烘烤处理。实验在室温下基线压力约 10^{-7} mbar 的真空系统中进行。提出了一个旨在精确模拟任意实验构型的工作模型。
引用
@article{arxiv.1901.01057,
title = {Effective decrease of photoelectric emission threshold from gold plated surfaces},
author = {Peter J Wass and Daniel Hollington and Timothy J Sumner and Fangchao Yang and Markus Pfeil},
journal= {arXiv preprint arXiv:1901.01057},
year = {2019}
}
备注
35 pages, 12 figures