中文

光发射电子显微镜作为研究光学近场的工具

光学 2016-08-16 v1

摘要

利用光发射电子显微镜对沉积在硅衬底(具天然氧化层 SiOx_{x})上特制 Ag 纳米颗粒所光发射的电子进行了成像。光发射分别由 Hg 紫外灯(光子能量截止值 ωUV=5.0\hbar\omega_{UV}=5.0 eV,波长 λUV=250\lambda_{UV}=250 nm)与 Ti:Sapphire 飞秒激光(ωl=3.1\hbar\omega_{l}=3.1 eV,λl=400\lambda_{l}=400 nm,脉宽低于 200 fs)照射诱导。当以高于银等离子体频率的能量照射时,观察到金属上均匀的光电子发射;而在较低光子能量下,发射定域于结构尖端。这被解释为局域电场的表征,从而提供了一种以发射电子显微镜分辨率绘制光学近场的工具。

关键词

引用

@article{arxiv.physics/0505177,
  title  = {Photoemission Electron Microscopy as a tool for the investigation of optical near fields},
  author = {M. Cinchetti and A. Gloskovskii and S. A. Nepjiko and G. Schönhense and H. Rochholz and M. Kreiter},
  journal= {arXiv preprint arXiv:physics/0505177},
  year   = {2016}
}

备注

10 pages, 4 figures; submitted to Physical Review Letters