通过氦注入以有效负压强在 BiFeO3 薄膜中图案化增强四方性
材料科学
2021-02-16 v1
摘要
外延薄膜中的氦注入是一种独立于由外延控制的面内应变来控制面外变形的方法。特别地，借助氦显微镜进行注入可实现局域注入与低至纳米分辨率的图案化，这对器件应用颇具意义。我们在此展示了一项对铋铁氧体（BiFeO3）薄膜的研究，其中应变通过氦注入进行了局域图案化。我们结合的拉曼、XRD 与 TEM 研究表明，注入导致 BiFeO3 晶胞的伸长，并最终经由混合相态转变为所谓的超四方多晶型。此外，TEM 揭示了在阈值剂量下非晶化的起始，该剂量似乎并不妨碍四方性的整体增加。从类 R 到类 T 的 BiFeO3 相变呈现一级相变特征，伴有相共存区域与晶格参数的突变。
引用
@article{arxiv.2102.07557,
title = {Patterning enhanced tetragonality in BiFeO3 thin films with effective negative pressure by helium implantation},
author = {C. Toulouse and J. Fischer and S. Farokhipoor and L. Yedra and F. Carla and A. Jarnac and E. Elkaim and P. Fertey and J. -N. Audinot and T. Wirtz and B. Noheda and V. Garcia and S. Fusil and I. Peral Alonso and M. Guennou and J. Kreisel},
journal= {arXiv preprint arXiv:2102.07557},
year = {2021}
}