准同型相界处 BiFeO$_3$ 薄膜的静电与应变协同调控
材料科学
2024-09-20 v2
摘要
多铁性 BiFeO(BFO)具有丰富的相图,使其薄膜形式下的性质可通过应变进行调控。特别是在大压缩应变下,具有巨极化的超四方(T)相相比于更常见的菱方(R)结构被稳定下来。为了在器件应用中利用此类亚稳态 BFO 相的功能性,理解其在纳米级异质结构嵌入过程中的铁电相演化至关重要。在此,我们利用原位光学二次谐波生成,探究了压缩应变 BFO 在薄膜生长过程中靠近准同型相界处铁电相的出现。我们发现外延薄膜在生长温度下以理想 T 相形成,且极化无临界厚度。T 样和 R 样的单斜畸变相特征仅在样品冷却时出现。我们进一步展示了在电容器状金属|铁电|金属异质结构生长过程中,高温 T 相中单畴极化的鲁棒性。在此,T 相四方性的降低而非畴的形成降低了静电能量。在此较低四方性下,密度泛函计算与扫描透射电子显微镜指出,在将异质结构冷却至室温时,一种新的亚稳态 R 样单斜结构被稳定。因此,我们的结果表明,BFO 异质结构中应变与静电相稳定的结合,为探索铁电相和实现超薄铁电器件提供了一个重要平台。
引用
@article{arxiv.2005.09685,
title = {Combined electrostatic and strain engineering of BiFeO$_3$ thin films at the morphotropic phase boundary},
author = {Johanna Nordlander and Bastien F. Grosso and Marta D. Rossell and Aline Maillard and Elzbieta Gradauskaite and Nicola A. Spaldin and Manfred Fiebig and Morgan Trassin},
journal= {arXiv preprint arXiv:2005.09685},
year = {2024}
}
备注
19 pages, 4 figures