正常入射冲刷侵蚀的连续介质模型：非局域性与非线性相互作用
材料科学
2009-11-11 v2
摘要
在特定的实验条件下，半导体材料的冲刷侵蚀表现出高度有序的六边形点状纳米结构。Facsko 等人最近提出一种非局域、阻尼的 Kuramoto-Sivashinsky 方程作为理解这种自组织过程的潜在连续介质模型。在本研究中，我们通过 (i) 从平衡条件推导此类非局域方程作为最小模型，(ii) 表明它可以精确映射到局部、阻尼的 Kuramoto-Sivashinsky 方程，以及 (iii) 检查所得非稳态侵蚀动力学的后果来理论地探讨了此方案。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0501049,
title = {On continuum modeling of sputter erosion under normal incidence: interplay between nonlocality and nonlinearity},
author = {Sebastian Vogel and Stefan J. Linz},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0501049},
year = {2009}
}
备注
7 pages, 2 Postscript figures, accepted by Phys. Rev. B corrected typos, few minor changes