利用相位敏感型 EUV 成像反射法进行无损、高分辨率、化学特异性的三维纳米结构表征
光学
2024-04-04 v1 应用物理
仪器与探测器
摘要
下一代纳米与量子器件具有日益复杂的三维结构。随着这些器件的尺寸缩小至纳米尺度，其性能往往取决于界面质量或精确的化学与掺杂剂组分。在此，我们展示了首个相位敏感型极紫外成像反射仪。它结合了相干高次谐波源优异的相位稳定性、极紫外反射法独特的化学与相位敏感性，以及最先进的叠层衍射成像算法。这种桌面式显微镜能够无损探测表面形貌、层厚度和界面质量，以及掺杂剂浓度和分布剖面。通过实现变角叠层衍射成像，使用全变分正则化来减轻重建图像中的噪声和伪影，并使用具有出色强度和波前稳定性的高亮度高次谐波源，实现了高保真成像。我们通过多尺度、多模态成像验证了我们的测量结果，表明与基于电子显微镜和扫描探针显微镜的其他技术相比，该技术具有独特优势。
引用
@article{arxiv.2404.02170,
title = {Non-Destructive, High-Resolution, Chemically Specific, 3D Nanostructure Characterization using Phase-Sensitive EUV Imaging Reflectometry},
author = {Michael Tanksalvala and Christina L. Porter and Yuka Esashi and Bin Wang and Nicholas W. Jenkins and Zhe Zhang and Galen P. Miley and Joshua L. Knobloch and Brendan McBennett and Naoto Horiguchi and Sadegh Yazdi and Jihan Zhou and Matthew N. Jacobs and Charles S. Bevis and Robert M. Karl and Peter Johnsen and David Ren and Laura Waller and Daniel E. Adams and Seth L. Cousin and Chen-Ting Liao and Jianwei Miao and Michael Gerrity and Henry C. Kapteyn and Margaret M. Murnane},
journal= {arXiv preprint arXiv:2404.02170},
year = {2024}
}
备注
47 pages, 16 figures (4 in main text, 12 supplement) 2 tables