使用台式EUV纳米显微镜对埋藏界面进行定量化学特异性相干衍射成像
光学
2016-11-03 v1
摘要
表征埋藏层与界面对于纳米科学和纳米制造中的大量应用至关重要。在此，我们展示了使用台式极紫外（EUV）相干衍射成像（CDI）纳米显微镜对埋藏界面进行非侵入、非破坏性的成像。镶嵌于SiO2中的铜纳米结构被涂覆100 nm铝层，该铝层对可见光不透明且足够厚，使得光学显微镜和原子力显微镜均无法对埋藏界面成像。短波长（29 nm）高次谐波光可穿透铝层，产生埋藏结构的高对比度图像。此外，涂覆前后界面的绝对反射率差异揭示了在Al-Cu和Al-SiO2边界处形成了间隙扩散和氧化层。最后，我们表明与其他所有方法相比，EUV CDI提供了一种独特的能力，用于对埋藏结构以及在这些埋藏界面处发生的材料演化进行定量、化学特异性的成像。
引用
@article{arxiv.1603.01301,
title = {Quantitative Chemically-Specific Coherent Diffractive Imaging of Buried Interfaces using a Tabletop EUV Nanoscope},
author = {Elisabeth R. Shanblatt and Christina L. Porter and Dennis F. Gardner and Giulia F. Mancini and Robert M. Karl and Michael D. Tanksalvala and Charles S. Bevis and Victor H. Vartanian and Henry C. Kapteyn and Daniel E. Adams and Margaret M. Murnane},
journal= {arXiv preprint arXiv:1603.01301},
year = {2016}
}
备注
12 pages, 8 figures