相邻坡莫合金纳米线中畴壁的近场相互作用
材料科学
2015-05-13 v1
摘要
实验证明了相邻坡莫合金纳米线中两个带相反电荷的横向畴壁（DWs）之间的静磁相互作用。研究了钉扎强度对线间距（13至125纳米）的依赖性，并测量到高达93奥斯特的去钉扎场。通过考虑刚性、孤立畴壁内完整复杂磁荷分布之间的相互作用，可以完全描述这些结果。这表明畴壁内部结构并未受到钉扎势的明显扰动，并且尽管钉扎强度显著，畴壁仍保持刚性。这项工作展示了无需接触即可实现畴壁捕获的可能性，且不会扰动畴壁，同时钉扎势类型和强度具有完全连续的灵活性。评估了这种相互作用对基于畴壁的数据存储方案的影响。
引用
@article{arxiv.0903.1195,
title = {Near-field interaction between domain walls in adjacent Permalloy nanowires},
author = {Liam O'Brien and D. Petit and H. T. Zeng and E. R. Lewis and J. Sampaio and A. V. Jausovec and D. E. Read and R. P. Cowburn},
journal= {arXiv preprint arXiv:0903.1195},
year = {2015}
}
备注
4 pages, 4 figures, 1 page supplimentary material (supporting.ps)