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单个磁畴壁的可调电阻率

介观与纳米尺度物理 2012-02-13 v1 材料科学

摘要

尽管电流驱动的磁畴壁 (DW) 运动对新兴自旋电子学应用具有重要意义,但电流与畴壁相互作用的确切细节尚未被完全理解。与该相互作用密切相关的一个性质是本征 DW 电阻率。本文通过实验研究了 DW 内部的电阻率如何依赖于畴壁宽度 DD,该宽度通过聚焦离子束辐照 Pt/Co/Pt 条带进行调控。我们利用克尔显微镜观测了单个 DW 的成核,并实时测量了电阻变化。结果表明,DW 电阻率具有 1/D21/D^2 的依赖关系,这与 Levy-Zhang 理论相符。通过充分考虑流过多层膜堆叠中每一层的电流,结果也与理论在定量上相吻合。

关键词

引用

@article{arxiv.1112.1239,
  title  = {Tunable resistivity of individual magnetic domain walls},
  author = {Jeroen H. Franken and Mark Hoeijmakers and Henk J M Swagten and Bert Koopmans},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1112.1239},
  year   = {2012}
}

备注

Submitted to Physical Review Letters 4 pages, 3 figures