铁磁金属中畴壁引起的电阻率
介观与纳米尺度物理
2016-08-31 v1
摘要
基于线性响应理论，计算了铁磁金属线中畴壁引起的电阻率。传导电子与畴壁之间的相互作用用经典规范场表示，该规范场通过电子自旋空间中的局域规范变换引入。结果表明，畴壁对电子的退相干有贡献，并且这种量子修正可以主导玻尔兹曼电阻率，导致通过畴壁的成核使电阻率降低。还研究了由畴壁运动引起的电导涨落。结果与最近的实验进行了比较。
引用
@article{arxiv.cond-mat/9612067,
title = {Resistivity due to a Domain Wall in Ferromagnetic Metal},
author = {Gen Tatara and Hidetoshi Fukuyama},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9612067},
year = {2016}
}
备注
9 pages, 3 figures