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半 Heusler 反铁磁体 CuMnSb 的分子束外延生长

材料科学 2020-09-02 v1

摘要

我们报道了在 InAs(001) 衬底上通过分子束外延生长 CuMnSb 薄膜。由于晶格失配,CuMnSb 层受到压缩应变(0.6~\text{%})。根据高分辨率 X 射线衍射,薄膜的 ω\omega 半高宽为 7.77.7^{''},由原子力显微镜测定的均方根粗糙度为 0.14 nm0.14~\text{nm}。发现磁性与电学性质与块体样品的报道值一致。我们测得 Néel 温度为 62 K62~\text{K},Curie-Weiss 温度为 65 K-65~\text{K},有效磁矩为 5.9 μB/f.u.5.9~\mu_{\text{B}}/\text{f.u.}。输运测量确认了反铁磁转变,并显示出 4 K4~\text{K} 下的剩余电阻率为 35 μΩcm35~\mu\Omega\cdot \text{cm}

关键词

引用

@article{arxiv.2009.00342,
  title  = {Molecular beam epitaxy of the half-Heusler antiferromagnet CuMnSb},
  author = {Lukas Scheffler and Katarzyna Gas and Sanjib Banik and Martin Kamp and Jonas Knobel and Haicheng Lin and Claus Schumacher and Charles Gould and Maciej Sawicki and Johannes Kleinlein and Laurens W. Molenkamp},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2009.00342},
  year   = {2020}
}

备注

6 pages, 5 figures, accepted in PRM