Kondo 耦合的石墨烯层亚导体磁性体，具有高迁移率准粒子
强关联电子
2025-11-26 v2 介观与纳米尺度物理
材料科学
超导电性
量子物理
摘要
二维石墨烯层材料表现出高载流子迁移率和可调性，使其适用于低功耗、高性能的电子器件和自旋器件应用。将狭带电子关联效应纳入其中可进一步提升可调性，但质量重整化可能影响载流子迁移率。因此，识别同时具备高迁移率和强关联性的石墨烯层材料具有挑战性。本文通过光谱学和高场量子振荡测量的结合，观察到 CeTe 在低温下出现显著的有效质量增强，这种增强不仅源于亚导体磁性有序导致的能带结构调制，还源于狭带关联效应。尽管存在质量增强，但量子迁移率 surprisingly 增加，达到约 2403 cm/Vs，可能源于拓扑保护。值得注意的是，这些独特性质在原子薄片中得以维持，量子迁移率增强至约 3158 cm/Vs。因此，CeTe 成为一种具有高迁移率准粒子的 Kondo 耦合型石墨烯层亚导体金属，可能为新的器件概念开辟出路。
引用
@article{arxiv.2506.23653,
title = {Kondo-coupled van der Waals antiferromagnet with high-mobility quasiparticles},
author = {Hai Zeng and Yang Zhang and Bingke Ji and Jiaqiang Cai and Shuo Zou and Zhuo Wang and Chao Dong and Kangjian Luo and Yang Yuan and Kai Wang and Jinglei Zhang and Chuanyin Xi and Junfeng Wang and Liang Li and Yaomin Dai and Jing Li and Yongkang Luo},
journal= {arXiv preprint arXiv:2506.23653},
year = {2025}
}
备注
23+8 pages, 4+8 figures, 1 table