离子束辐射及温度对 Co/Si 和 CoO/Co/Si 薄膜的影响
材料科学
2016-08-22 v1
摘要
通过磁控溅射以多层形式沉积了 Co 和 CoO 薄膜。用不同能量和注量的 Ar 和 Si 离子束对其进行辐照。研究了其磁学性质。
引用
@article{arxiv.1608.05663,
title = {Ion Beam radiation and temperature effect on Co/Si and CoO/Co/Si thin films},
author = {A. S. Bhattacharyya},
journal= {arXiv preprint arXiv:1608.05663},
year = {2016}
}