电容器结构中压电响应力显微镜的成像机制
材料科学
2009-11-13 v1
摘要
分析了电容器结构中压电响应力显微镜 (PFM) 的成像机制。我们证明了空间分辨率是薄膜厚度和顶电极厚度的双线性函数，并推导了相应的解析表达式。对于许多钙钛矿材料， 和分量的相反贡献可能导致异常的畴壁轮廓。该分析确立了 PFM 在电容器极化动力学研究中的适用范围，并适用于其他结构探针，包括对电容器结构的聚焦 X 射线研究。
引用
@article{arxiv.0801.2568,
title = {Imaging Mechanism of Piezoresponse Force Microscopy in Capacitor Structures},
author = {Sergei V. Kalinin and Brian J. Rodriguez and Seung-Hyun Kim and S-K. Hong and Alexei Gruverman and Eugene A. Eliseev},
journal= {arXiv preprint arXiv:0801.2568},
year = {2009}
}
备注
20 pages, 3 figures, 2 tables, 1 Aappendix, to be submitted to Appl. Phys. Lett