基于动态标度理论的离子束溅射 Al 薄膜生长动力学
材料科学
2015-06-23 v1
摘要
本文报道了离子束溅射铝薄膜的生长动力学研究。利用动态标度理论从 AFM 测量中推导出动力学规律。AFM 成像显示表面具有明显不同的形貌。沉积时间的变化导致了这种差异性。确定了控制生长的静态 () 和动态 () 标度指数。随着沉积时间从 3 分钟增加到 15 分钟,指数 () 减小。因此,界面宽度 () 随临界长度 () 减小,同时表面粗糙度增加。表面扩散是在短短 3 分钟的沉积过程中发生的主要表面粗化现象。将沉积时间延长至 15 分钟引入了占主导地位的体扩散过程,最终导致连续薄膜的平滑化。
引用
@article{arxiv.1409.6477,
title = {Growth Kinetics of Ion Beam Sputtered Al-thin films by Dynamic Scaling Theory},
author = {Neha Sharma and K. Prabakar and S. Dash and A. K. Tyagi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1409.6477},
year = {2015}
}