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基于动态标度理论的离子束溅射 Al 薄膜生长动力学

材料科学 2015-06-23 v1

摘要

本文报道了离子束溅射铝薄膜的生长动力学研究。利用动态标度理论从 AFM 测量中推导出动力学规律。AFM 成像显示表面具有明显不同的形貌。沉积时间的变化导致了这种差异性。确定了控制生长的静态 (α\alpha) 和动态 (β\beta) 标度指数。随着沉积时间从 3 分钟增加到 15 分钟,指数 (α\alpha) 减小。因此,界面宽度 (ξ\xi) 随临界长度 (LcL_c) 减小,同时表面粗糙度增加。表面扩散是在短短 3 分钟的沉积过程中发生的主要表面粗化现象。将沉积时间延长至 15 分钟引入了占主导地位的体扩散过程,最终导致连续薄膜的平滑化。

关键词

引用

@article{arxiv.1409.6477,
  title  = {Growth Kinetics of Ion Beam Sputtered Al-thin films by Dynamic Scaling Theory},
  author = {Neha Sharma and K. Prabakar and S. Dash and A. K. Tyagi},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1409.6477},
  year   = {2015}
}