气相沉积聚合物薄膜生长中的反常标度行为

作为理解近期气相沉积聚合（VDP）生长实验中具有多重分形的反常动力学粗糙化的第一步，我们在 (1+1) 维晶格上研究了包含单体扩散、聚合物成核、有限活性端键合和阴影效应的 VDP 生长简单玩具模型。通过大量数值模拟，我们观察到全局粗糙度指数与局部粗糙度指数不同。本文论证了 VDP 生长中的这种反常现象归因于非局部阴影效应对聚合物活性端引起的不稳定性。通过利用余弦通量改变扩散系数与沉积率的比值，我们还讨论了扩散在聚合物薄膜生长动力学粗糙化中的作用，这与金属或半导体薄膜生长中的作用截然不同。最后，我们提出了其 (2+1) 维版本，可以直接与实验结果进行比较。