尺寸选择 Ag 纳米团簇薄膜在后续阴影化过程中生长的表面标度行为
材料科学
2020-08-26 v1
摘要
采用原子力显微镜（AFM）研究了通过直流磁控溅射生长的尺度选择银纳米团簇薄膜的表面形貌。由相应 AFM 图像获得的高度-高度关联函数（HHCF）计算出标度指数，并观察到两类生长机制。在第一类机制中，生长指数约为 \b{eta}1 = 0.27\pm0.07，接近 KPZ 生长指数；而在第二类生长机制中阴影效应起主导作用，其生长指数值为 \b{eta}2 = 0.88\pm0.28。另一方面，在整个沉积区间，粗糙度指数值约为恒定值 {\alpha}= 0.76\pm0.02。UV-vis 光谱测量显示了薄膜表面的平均反射率如何随不同生长时间变化。
引用
@article{arxiv.1911.09381,
title = {Surface scaling behaviour of size-selected Ag-nanocluster film growing under subsequent shadowing process},
author = {Pintu Barman and Anindita Deka and Shyamal Mondal and Debasree Chowdhury and Satyaranjan Bhattacharyya},
journal= {arXiv preprint arXiv:1911.09381},
year = {2020}
}
备注
13 pages, 9 figures