硅衬底上镍铂硅化物的形成：基于第一性原理计算的结构、相稳定性与扩散
材料科学
2013-08-13 v1
摘要
本文采用第一性原理方法研究了 Si(001) 表面上 Ni(Pt) 硅化物的形成过程。计算表明，在沉积掺 Pt 的 Ni 覆盖层后，Ni 原子迅速扩散进入 Si 晶格，初始形成 Ni2Si。与此同时，Si 原子也被发现扩散进入金属覆盖层。Ni2Si 向 NiSi 的转变可能通过空位辅助扩散机制进行。在此转变过程中，Si 原子是主要的扩散物种，它们从 Si 衬底穿过生长的 NiSi 层迁移至 Ni2Si 中。Pt 原子在 Ni2Si 中的溶解度较低，且倾向于占据 NiSi 晶格中的 Si 位点，从而稳定 NiSi 相。Pt 的扩散率低于 Ni。此外，Pt 原子倾向于偏析至界面，从而起到扩散势垒的作用。
引用
@article{arxiv.1308.2605,
title = {Formation of Nickel-Platinum Silicides on a Silicon Substrate: Structure, Phase Stability, and Diffusion from Ab initio Computations},
author = {M. Christensen and V. Eyert and C. Freeman and E. Wimmer and A. Jain and J. Blatchford and D. Riley and J. Shaw},
journal= {arXiv preprint arXiv:1308.2605},
year = {2013}
}
备注
36 pages, 9 tables, 6 figures