利用三维中能离子散射对超薄硅化镍进行原位表征
材料科学
2019-10-22 v1
摘要
我们展示了一种利用三维中能离子散射对超薄硅化镍薄膜相变进行非破坏性原位表征的新方法。该技术在退火过程中使用单个样品同时提供硅化物薄膜的成分与实空间晶体学信息。我们显示，对于 Si 上 10 nm 的 Ni 薄膜，其成分遵循正常的相变序列，如 Ni-Ni2Si-NiSi。对于初始 Ni 厚度为 3 nm 的样品，利用位置灵敏探测器的深度分辨晶体学表明，Ni 薄膜在约 290 {\deg}C 的较低温度下从沉积态无序层转变为外延硅化物层。
引用
@article{arxiv.1910.09393,
title = {In-situ characterization of ultrathin nickel silicides using 3D medium-energy ion scattering},
author = {Tuan Thien Tran and Lukas Jablonka and Christian Lavoie and Zhen Zhang and Daniel Primetzhofer},
journal= {arXiv preprint arXiv:1910.09393},
year = {2019}
}
备注
10 pages, 5 figures