板几何中临界Ising模型磁化概率密度的有限尺寸标度

在临界温度和零磁场下，通过蒙特卡洛模拟计算了体积为 $L_{\parallel}^{d-1} \times L_{\perp}$ 的板几何中 d=2 和 3 维 Ising 模型的磁化概率密度。讨论了该分布的有限尺寸标度及其对系统纵横比 $\rho=\frac{L_{\perp}}{L_{\parallel}}$ 和边界条件的依赖。在宏观大板（$L_{\parallel} \gg L_{\perp}$）的极限情形 $\rho \to 0$ 下，发现对于所有测试的系统尺寸和边界条件，该分布均标度为高斯函数。